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UV光清洗机OR紫外清洗机(日本进口)

2018/11/21 15:36:43发布69次查看
加工定制品牌Agilent/安捷伦
型号235用途清洗硅片氧化清洗
别名清洗机规格235

uv光清洗机or紫外清洗机
uv光清洗机or紫外清洗机由紫外清洗机主机及紫外消除器组成。灯管为栅格结构低压石英汞灯,可产生254和185nm范围的紫外线。利用光源控制器和温度传感器控制紫外灯发出一定强度的紫外光谱,通过紫外光照射达到退火或清洗的目的。
是一种快速低温干法物件表面有机污物的工具。
   紫外臭氧清洁使用光化学氧化分解过程,其是由紫外辐射与氧的反应的组合引起的,以及通过紫外辐射的化学键解离的影响。当184.9nm辐射与氧气反应时,产生臭氧。 同时,有机污染物通过吸收紫外辐射而解离。 臭氧通过253.7nm辐射解离并同时产生活性氧。 通过该污染分子的解离的产物与活性氧反应并变成更简单的挥发性分子(例如co 2,h 2 o等)并将其从基材表面分离。当同时存在184.9nm辐射和253.7nm辐射时,氧原子继续发生并变成臭氧,并且它被解离。可低温清除硅、砷化镓、石英、蓝宝石、玻璃、云母、陶瓷、金属等表面有机污染的***安全、***有效的方法。可以改善被退火物件的表面质量,使得涂层与物件表面的粘附力可大大增加,并可用于生物芯片制作过程中pdms键合。
uv光清洗机or紫外清洗机用途
主要用于镀膜或涂胶前彻底低温安全清除基材表面上的有机污染 
2、去除光刻胶、基片蓝膜上残留物 
3、清洁焊剂,混合电路以及平板led的ito膜 
4、增强塑料表面的镀膜的粘附性 
5、提高支持膜的亲水性 
6、增强硅氧化物的钝化表面 
7、改善硅片表面生长氧化层 
多用于半导体或厚膜电路生产中硅片或玻璃片等基板的低温紫外退火处理,使得这些基板表面有机污物,并改善这些基板材料的表面亲水性。
关键字: uv光清洗机,紫外清洗机,硅片清洗机,硅片清洗箱,半导体清洗机,晶圆清洗箱

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