su- 8光刻胶是一个高对比度，环氧基光刻胶专为微加工和微电子等的应用需要的厚胶，化学和热稳定的图像. su-8 2000是一种改进的配方的su- 8，su-8已被用于通过mems制造多年。使用更快的干燥技术，极性更大的溶剂的系统改进了涂层质量，并增加了处理量. su- 8 2000有12个标准粘度. 膜厚度的0.5到> 200微米可以通过一个单一的涂层过程实现。曝光和随后的膜热交联的部分不溶于液体显影剂。 su- 8光刻胶有质量稳定的成像特性，并能产生非常高的纵横比结构。 su- 8光刻胶具有非常高的光传输性高于360纳米，这使得它非常适合在很厚的薄膜附近的垂直侧壁成像。su-8光刻胶很适合长久性应用中成像，固化并留在设备上.
su-8 光刻胶 特点：
• 高纵横比成像
• 0.5至>200μm的膜厚在单一的涂层
• 改进涂料性能
• 快速干燥增加处理量
• 近紫外线（350-400nm）的处理
• 垂直侧壁
microchem su-8 2025-2075-2150 同等转速，厚度逐渐提高，可根据自己实验需求选择具体的型号。目前su-8光刻胶有2000系类和3000系列两类产品，3000系列升级后对光刻胶的粘附力，产品精度等性能进一步完善。
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