激光光绘机是用激光对菲林进行扫描产生图形的，其原理正如电视机显像管中电子枪扫描屏幕上的荧光物质一样。首先，将印制电路板的图面映像到一个大存储阵列中，然后使激光束按照存储阵列中相应单元的值被打开或关闭(调制)，从而得到所需要的工艺菲林。激光光绘机采用激光做光源，有容易聚焦、能量集中等优点，对瞬间快速的底片曝光非常有利，绘制的底片边缘整齐、反差大、不虚光。曝光采用扫描式，无论密度多大，均能在最短时间内完成曝光，绘制一张底片只需几分钟。因此成为当今光绘行业的主流。激光光绘机的光源多采用气体激光器，如氩、氦和氖等。气体激光器的光源强度大但寿命却有限，约6000～10000h，因此使用一年多就需要更换光源。一些光绘机生产厂家采用了半导体激光器作为光源，但较大功率的半导体激光器的生产还不很成熟。
工艺流程：由cad产生的设计数据转换成光绘数据(多为gerbei数据)经cam系统进行处理，完成光绘预处理(拼版、镜像等)。将处理完的数据送入光绘机，由光绘机的光栅(raster)数据处理器转换成光栅数据，此光栅数据直接驱动激光光绘机，完成光绘。
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