入pvd厂→检验→清洗→擦拭→上挂具→烘烤→（150°c×30分钟+）→进炉pvd（抽真空、升温→离子轰击清洗→镀膜）→降温至100°c以下→出炉→下挂→品检→装袋→回厂
pvd真空镀膜，离子镀膜膜层的均与性主要包括成分均匀、组织结构均匀和膜厚均匀，最终保证膜层各种性能均匀。材料的性能由其诚分与组织结构所决定，膜层必须获得所设计的膜系成分和组织结构均匀一致。薄膜是二维材料，膜的厚度是重要的材料技术指标。比如薄膜的干涉显色，耐腐蚀性和耐磨性都与膜厚密切相关，膜厚均匀保证薄膜相关的性能均匀。
pvd镀铬技术的优势
1. 完全无污染的生产工艺过程
在涂层前处理中，采用环保型的金属清洗剂对工件表面进行去油和脱脂处理，烘干后工件放入真空室中进行pvd镀铬处理。镀铬过程以高纯金属铬为原料，通入氮气和氩气等瓶装气体，在沉积铬复合涂层的专用设备中，采用先进的等离子体源辅助电弧-溅射等先进技术，通过电场、磁场、等离子体和离子束流的作用，发生化学反应，实现了铬复合涂层的生成。使用的原材料价廉易得，国内可以大量供应。在整个工艺生产过程中，没有采用任何有毒有害的原料，是完全无污染的绿色环保生产技术。
问: 请问采用pvd镀膜技术镀出的膜层有什么特点？
答: 采用pvd镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性.主要意思是指在真空条件下，在真空状态注入氩气，氩气桩基靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。在常规环境下具有抗化学反应、不褪色，不失去光泽、耐磨损、耐刮擦、不易划伤，且可镀材料广泛，与基体结合力强。
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