1、              设备名称与型号：自动温控加热板nhp-320
2、              设备外观图：（见图）
3、              设备概要：本设备可以同时加热30片2″wafer，片子通过pin升降达到所有wafer加热时间相同，克服因人工夹放wafer造成的工艺不稳定问题。
4、              设备规格：
1)         基板尺寸：2″wafer；
2)         through put：30片/run；
3)         温度范围：20~150℃(plate表面)；
4)         hp材质：al+salw（阳极处理）+silastic heater；
5)         加热面尺寸：(w×d×h) 510×430×12(mm)；
6)         温度分布：90℃ ±1℃；120℃±1℃；
7)         温度sensor：pt100型热电偶；
8)         温度表示：温度调整器digital表示；
9)         控制方式：digital温度调整器+ssr（pid）；
10)    设备外面尺寸：(w×d×h) 566×486×170(mm)；
11)    设备净重：30kg；
5、             设备运作流程：
（1）.查看设备外观无运输破损后，将电源线插入~220v接线板插坐;插上供气管
（2）.打开电源开关，设备自检初始化，顶针(pin)顶起
（3）.设置加热温度；设置工作时间
（4）.放上待加热晶片
（5）.按开始键，顶针下落，晶片落下，贴紧加热板，开始加热，时间继电器开始计时
（6）.时间到，顶针（pin）同时顶起晶片，所有晶片同时离开热板不再加热，蜂鸣器响起提醒工作人员取下加热均匀的晶片。
（7）.工作过程中，遇突发事件，可按停止按健，顶针立即顶起晶片，停止加热，时间继电器复位，方便随时进行人工干预。
6、              厂务要求：
项次
项目
內容
容量
备注
1
电源
ac 220v
15a 50hz
2
cda
>6kg
稳压1.5kg
3
供气管
φ8mm
3kg~10kg
7、              产品优势：
a)       30片/run，产能优势；
b)    silastic heater温度均匀性更高。

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深圳市源顺达电子机械有限公司
陈永林
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