※产品用途：
    cnt生产的cvd（真空化学气相沉积炉）是一种用于在基片上生成高质量tic、sic、sio2、si3n4 专用设备。淀积温度能够较高 (100～1800℃可调 ) ，它已成为机械制造工业、冶金工业、光学工业、半导体工业等领域微电子和光电子领域科研和生产不可缺少的设备。
    ※产品结构：
cnt公司cvd设备主要由全真空专用不锈钢腔体，分子泵高真空系统，电源，生长机体载体及温控系统，独立排气和生长压力调节系统，冷却循环水辅助设备等组成。整机结构紧凑、操作方便、抽真空速度快。此设备控制系统采用逻辑按钮手动控制与工控机自控控制可选。实现真空抽气和镀膜工艺一体化功能。此设备可用于制作sio2、si3n4、非晶si：h、多晶si、sic、w、ti-si、gaas、gasb等介电、半导体及金属膜等。
参数名称
单
位
型                 号
cvd-4-18
cvd-8-18
cvd-12-18
cvd-16-18
cvd-20-18
额定功率
kw
 21
30
45
60
75
额定电压
v
380
380
380
380
380
最高温度
℃
1800
1800
1800
1800
1800
工作温度
℃
≤1700
≤1700
≤1700
≤1700
≤1700
真空度
6.67pa
6.67pa
6.67pa
6.67pa
6.67pa
基片台尺寸
直径
4英寸
8英寸
12英寸
16英寸
20英寸
基片台转速
0-20rpm
0-20rpm
0-20rpm
0-20rpm
0-20rpm
保温材料
v
石墨
石墨
石墨
石墨
石墨
加热方式
石墨 
石墨 
石墨 
石墨 
石墨
升温速率
℃/min
≤25
≤25
≤25
≤25
≤25
控温精度
℃
±1
±1
±1
±1
±1
标配
  1、 三路质量流量计 ，氮气、氢气、甲烷、氩气
2、气路报警系统(氢气和甲烷)、超温报警、缺水报警
选配
1、尾气处理设备
2、气瓶及减压阀

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西尼特（北京）科技有限公司
丁经理
18501253290
五里桥二街一号院