光敏平面橡胶渗透印章，简称光敏章，又称为平面橡胶印章。光敏印章制作技术是于1998年初从日本引进我国大陆的。该印章具有方便、既印即干等特点，盖出印迹具有标准、规范，其制作工艺简单、快速
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-  原子印章亦称万次印章，属于现代高科技产品。由印柄和印面两部分组成。印柄是由手柄、弹簧、活动内芯、外框组成。原子印章印章面是利用具有微孔结构的海绵体特殊材料制成，
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