一、pvd、cvd、pcvd技术现状及发展趋势
各种气相沉积是当前世界上著/名研究机构和大学竞相开展的具有挑战的性的研究课题。目前该技术在信息、计算机、半导体、光学仪器等产业及电子元器件、光电子器件、太阳能电池、传感器件等制造中应用十分广泛，在机械工业中，制作硬质耐磨镀层、耐腐蚀镀层、热障镀层及固体润滑镀层等方面也有较多的研究和应用，其中tin等镀膜刀具的普及已引起切削领域中的一场革命，金刚石薄膜、立方氮化硼薄膜的研究也十分火热，并已向实用化方面推进。在不同pvd、cvd工艺的基础上，通过发展和复合很多新的工艺和设备，如ibad、pcvd与空心阴极多弧复合离子镀膜装置、离子注入与油溅射镀或蒸镀的复合装置、等离子体浸没式离子注装置等不断将该类技术推向新的高度。与国外的发展相比，我国在上述方面虽研究较多，但水平有较大差异，在实用化方面差距更大。
镀钛一般用于提高物件外貌耐磨性，好比，高速加工中心用的丝锥、钻头，都可以镀钛，以提高刀具的耐磨性，尚有活塞环外貌处理惩罚也有镀钛，同样是为了提高耐磨性。
镀钛工艺有：真空镀膜和喷涂工艺等。真空镀膜包罗：磁控溅射法，电弧离子镀法等，汇森钛金，假如在镀膜进程中通入氮dan气可以形成氮化钛，镀层颜色金黄色，不然白色。该要领镀层薄，一般在15个微米阁下，镀层灼烁不需要后续加工。喷涂的要领有冷喷涂法，涂层很厚可以到达毫米量级，外貌粗拙需要后续加工
镀钛一般用于提高物件外貌耐磨性，好比，高速加工中心用的丝锥、钻头，都可以镀钛，以提高刀具的耐磨性，尚有活塞环外貌处理惩罚也有镀钛，同样是为了提高耐磨性。
镀钛工艺有：真空镀膜和喷涂工艺等。真空镀膜包罗：磁控溅射法，电弧离子镀法等，汇森钛金，假如在镀膜进程中通入氮dan气可以形成氮化钛，镀层颜色金黄色，不然白色。该要领镀层薄，一般在15个微米阁下，镀层灼烁不需要后续加工。喷涂的要领有冷喷涂法，涂层很厚可以到达毫米量级，外貌粗拙需要后续加工。
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