1、设备名称：karl suss ma56
2、设备品牌：karl suss
3、设备型号：ma56
4、设备中文名字：光刻曝光系统
5、设备应用：半导体、mems、电子、太阳能、薄膜电池等
6、设备英文资料
karl suss ma56 mask aligner exposure system
description:
the suss ma 56 is a mask alignment and exposure system that has highly ecnomonical production capabilities for wafers up to 125mm. it's easy to maintain and can be easily adapted to fit your particular process requirements.
features:
ksm split field microscope
motorized xyz stage
specifications:
system capable of 3 to 5
cassette to cassette
350 w lamp
uv-400 exposure optics
365 - 405nm wavelength
max substrate size 4 x 4
objective distance adjustable 24 - 100mm
208v / 1 phase / 20 amp
5 bar (80 psi) cda
2 bar (35 psi) n2
7、设备中文资料
卡尔suss ma56光刻曝光系统 说明：suss的马56是一个光罩对准曝光系统，具有高度ecnomonical至125mm晶圆的生产能力。它易于维护，并可以很容易地调整以适应您的特殊工艺要求。 特点： 哈立德斯普利特场显微镜 电动xyz的舞台 产品规格： 系统能力3“5” 盒对盒350 w灯uv- 400曝光光学365 - 405nm波长 最大基板尺寸4“× 4” 客观的距离可调24 - 100mm 相208v/ 1/ 20安培5巴（80 psi）的综合发展区2条（35 psi）的氮气

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深圳市昊光机电科技应用有限公司
王明
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