深圳众诚达应用材料科技有限公司生产销售磁控溅射用的靶材，磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，gzo靶，2013年的蒸发镀膜方式，其很多方面的优势相当明显。作为一项已经发展的较为成熟的技术，氧化铌靶，磁控溅射已经被应用于许多领域。
ti al mo 性能参数 生产工艺：真空熔炼，hip，浇铸，相对密度100%，纯度>99.99%～99.999%，靶，最大尺寸：长4000mm应用领域：薄膜太阳能工业、触摸屏工业、显示器工业、光学镀膜工业、低辐射镀膜玻璃工业。
深圳市众诚达应用材料科技有限公司（简称apg）
gzo性能参数：相对密度>99%纯度>99.95%～99.999%应用领域：薄膜太阳能工业、触摸屏工业、显示器工业、光学镀膜工业、低辐射镀膜玻璃工业。
陶瓷旋转靶材采用烧结及绑定工艺，可生产最大长度4000mm，氧化钛靶，单节最大长度250mmm，厚度根据客户要求定做。
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gzo性能参数：相对密度>99%纯度>99.95%～99.999%应用领域：薄膜太阳能工业、触摸屏工业、显示器工业、光学镀膜工业、低辐射镀膜玻璃工业。
陶瓷旋转靶材采用烧结及绑定工艺，可生产最大长度4000mm，单节最大长度250mmm，厚度根据客户要求定做。
靶|众诚达应用材料公司|gzo靶由深圳市众诚达应用材料科技有限公司提供。深圳市众诚达应用材料科技有限公司（）实力雄厚，信誉可靠，在广东深圳的有色金属合金等行业积累了大批忠诚的客户。公司精益求精的工作态度和不断的完善创新理念将引领众诚达应用材料公司和您携手步入辉煌，共创美好未来！
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黄勇彪
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