ag及ag合金靶材
       ag靶材主要应用于光盘介质的反射膜；stn液晶显示装置或有机el显示装置等的光反射性薄膜。在ag合金中添加少量的in、sn、zn或au、pd、pt，靶材，或根据情况添加少量的cu，北京靶材，可将低溅射靶材电阻，靶材厂商，提高靶材图案形成性、耐热性、反射率和耐硫化性等。
合金溅射靶材 （规格按要求定做）
钛铝ti-al、铝硅al-si、铝铜al-cu、铝钛al-ti、银铜ag-cu、铝镁al-mg、钴铁硼co-fe-b、铜铟镓cu-in-ga、铁锰fe-mn、铟锡in-sn、钴铁co-fe、镍钴ni-co、镍铁ni-fe、镍铬ni-cr、镍锆ni-zr、镍铝ni-al、镍铜ni-cu
微电子领域
 在所有应用产业中，半导体产业对靶材 i 溅射薄 膜的品质要求是最苛刻的。现在12英寸 的 硅晶片已制造出来．而互连线的宽度却在减小。硅片制造商对靶材的要求是大尺寸、高纯度、低偏析和 细晶粒， 这就要求所制造的靶材具有更好的微观结构.靶材的结晶粒子直径和均匀性 已被认为是影响薄膜沉 积率的关键因素.
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