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美国GE纳滤膜 HL4040F 水体软化纳滤膜

2018/8/16 16:43:11发布57次查看
  • 滤膜类型:纳滤膜
  • 品牌:GE/通用电气
  • 适用对象:水
  • 用途:水过滤
  • 厚度:
  • 适用范围:水泵
  • 过滤方式:外压式
  • 性能:耐酸,耐碱
  • 操作压力:1-5
  • 工作温度:1-45
  • 过滤精度:99%
  • 截留分子量:
  • 孔径:0.2
  • 通量:500
  • 纵向强度:
  • 规格:

美国ge纳滤膜hl4040f四寸水体软化纳滤膜
孙先生    13652329065   2338767047
美国ge纳滤膜的纳滤过程
ge膜的纳滤过程的关键是纳滤膜。对膜材料的要求是:具有良好的成膜性、热稳定性、化学稳定性、机械强度高、耐酸碱及微生物侵蚀、耐氯和其它氧化性物质、有高水通量及高盐截留率、抗胶体及悬浮物污染,由两部分结构组成:一部分为起支撑作用的多孔膜,其机理为筛分作用;另一部分为起分离作用的一层较薄的致密膜,其分离机理可用溶解扩散理论进行解释。对于复合膜,可以对起分离作用的表皮层和支撑层分别进行材料和结构的优化,可获得性能优良的复合膜。膜组件的形式有中空纤维、卷式、板框式和管式等。其中,中空纤维和卷式膜组件的填充密度高,造价低,组件内流体力学条件好;但是这两种膜组件的制造技术要求高,密封困难,使用中抗污染能力差,对料液预处理要求高。而板框式和管式膜组件虽然清洗方便、耐污染,但膜的填充密度低、造价高。因此,在纳滤系统中多使用中空纤维式或卷式膜组件。
  在我国,对纳滤过程的理论研究比较早,但对纳滤膜的开发尚处于初步阶段。在美国、日本等国家,纳滤膜的开发已经取得了很大的进展,达到了商品化的程度,如美国filmtec公司的nf系列纳滤膜、日本日东电工的ntr-7400系列纳滤膜及东丽公司的utc系列纳滤膜等都是在水处理领域中应用比较广泛的商品化复合纳滤膜。
  对于一般的反渗透膜,脱盐率是膜分离性能的重要指标,但对于纳滤膜,仅用脱盐率还不能说明其分离性能。有时,纳滤膜对分子量较大的物质的截留率反而低于分子量较小的物质。纳滤膜的过滤机理十分复杂。由于纳德膜技术为新兴技术,因此对纳滤的机理研究还处于探索阶段,有关文献还很少。但鉴于纳滤是反渗透的一个分支,因此很多现象可以用反渗透的机理模型进行解释。关于反渗透的膜透过理论有朗斯代尔、默顿等的溶解扩散理论;里德、布雷顿等的氢键理论;舍伍德的扩散细孔流动理论;洛布和索里拉金提出的选择吸附细孔流动理论和格卢考夫的细孔理论等。
ge纳滤膜的过滤性能
  纳滤膜的过滤性能还与膜的荷电性、膜制造的工艺过程等有关。不同的纳滤膜对溶质有不同的选择透过性,如一般的纳滤膜对二价离子的截留率要比一价离子高,在多组分混合体系中,对一价离子的截留率还可能有所降低。纳滤膜的实际分离性能还与纳滤过程的操作压力、溶液浓度、温度等条件有关。如透过通量随操作压力的升高而增大,截留率随溶液浓度的增大而降低等。同时可以查看中国污水处理工程网更多技术文档。
美国ge纳滤膜应用中的出现问题
  纳滤膜有较高的膜通量,可以截留有机及无机污染物,而对人体必需的一些离子又有较大的透过率,因此,把纳滤膜应用于饮用水的深度净化较其它的膜分离技术有较大的优势。把钢滤膜应用于给水处理领域的主要问题是
1、膜表面容易形成附着层,使膜的通量显著下降。
2、操作结束后,膜的清洗较困难。
3、膜的耐用性差。
世界各国的水处理工作者正在进行广泛的研究,寻求解决这些问题的途径。纳滤技术在给水处理领域的推广应用还依赖于这些问题的进一步解决
美国ge纳滤膜元件污染形成因素分析
ge纳滤膜元件污染通常是指溶液中的溶质以及溶剂相互作用而产生的一些复杂现象,主要包括膜面污堵、化学破坏以及细菌生长几种情况。
  当截留的污染物质没有从ge纳滤膜元件表面传回主体液流(进水)中,膜表面上污染物质的沉淀与积累(这包括溶解性盐和悬浮固体在膜表面的富集、胶体和可溶性高分子有机物的吸附与微生物的粘附生长以及新陈代谢产物形成的粘垢),使水透过膜的阻力增加,妨碍了ge复合纳滤膜元件面上的溶解扩散,从而导致膜产水量和水质的下降。
  同时,由于沉积物占据了盐水通道空间,限制了组件中的水流流动,增加了水头损失。实验研究表明,这些沉积物可分别通过物理、化学及物理化学方法去除,因而ge纳滤膜元件产水量是可恢复的。
美国ge纳滤膜元件清洗条件
ge纳滤膜元件的清洗时机主要依据以下参数的变化来选择:
(1)在正常给水压力下,产水量较正常值下降10%~15%。
(2)为维持正常产水量,经温度校正后地给水压力增加10%~15%。
(3)产水水质降低10%~15%,透盐率增加10%~15%。
(4)系统各段之间压差明显增加。
  以上标准的基准条件,可考虑取自系统经过最初48h运行时的纳滤膜的性能。 
  需要注意的是,如果进水温度降低,ge纳滤膜元件产水量也会下降,这是正常现象并非纳滤膜的污染所致。预处理失效,压力控制失常或回收率的增加也将会导致ge纳滤膜元件产水量的下降或透盐率的增加。
  当观察到系统出现问题时,此时ge纳滤膜元件可能并不需要清洗,应该首先考虑这类原因。 
ge纳滤膜元件正常的清洗周期是每3~12个月一次,如果1个月内清洗一次以上,需对纳滤预处理系统做进一步调整和改善或者重新设计预处理系统。如果清洗频率是每3个月一次,需对现有设备进行改造。如果ge复合纳滤膜元件的性能降低至正常值的30%~50%时,清洗将不能完全恢复膜元件的性能,此时需考虑更换膜元件。

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