本镀膜机主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及微小产品进行真空镀膜等真空处理的工艺研究、样板试制、操作培训和生产。
该设备主机与控制一体化设计，操控方便；结构紧凑，占地面积小。该系列设备广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验以及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等，深受广大用户好评。
技术参数：
1、真空腔室：ф300×h360mm， 304 优质不锈钢真空腔室/（不包含真空机组， 
             480x320x460mm宽x高x深）
2、真空系统：复合分子泵+直联旋片泵+高真阀门高真空系统，数显复合真空计；
3、真空极限：（空载）8.0×10-5pa；
4、漏率：≤0.8pa/h；
5、抽速：（空载）从大气抽至 5.0×10-3pa≤13min；
6、膜厚不均匀性：≤±5%（基片台φ80mm 范围内）；
7、其他：磁控溅射和蒸发镀一体机等。

---

北京科创鼎新真空技术有限公司
张磊
18500365475