磁控、中频、多弧离子镀膜设备应用于五金件、玻璃工艺品、陶瓷工艺品等，如手表、手机金属壳、洁具、刀具、模具、电子产品、水晶玻璃等。
该系列设备主要是（集）直流磁控溅射,中频溅射和多弧离子三种技术融合一体，可适应广泛镀膜靶材，无论金属还是介质、化合材料都可以利用溅射工艺进行镀膜及成膜,使膜层附着力、致密度、从复度及颜色一致性好等特点。可镀制tin、tic、ticn、tialn、crn、cu、au、金刚石膜（dlc）、装饰膜等非金属及其化合物的膜层和复合膜层。可编程序控制器（plc）+触摸屏（hmi）组合电气控制系统，全自动控制。
磁控、中频、多弧离子镀膜设备
设备型号
zck-1000
zck-1150
zck-1200
zck-1400
zck-1600
真空室尺寸
1000×1200
1150×1200
1200×1300
1400×1300
1600×1300
制膜种类
金色氮化钛、黑色碳化钛、七彩氧化钛、耐磨膜、超硬膜、金刚石膜、金属装饰膜等
电源类型
直流电源、中频电源、电弧电源、灯丝电源、活化电源、脉冲偏压电源
多弧靶
多弧靶5个或18个，1个或2个柱弧靶
孪生靶
中频孪生柱靶或平面靶（1-4对）
真空室结构
立式前开门结构（双层水套式或水槽式冷却）、后置抽气系统
真空系统
旋片泵＋罗茨泵＋扩散泵＋维持泵（或选配：分子泵、深冷泵、深冷系统）
加热系统
常温至350度可调可控（pid控温），不绣钢加热管加热
充气系统
质量流量控制仪（1-4路）
极限真空
6×10－4pa（空载、净室）
抽气时间
空载大气抽至5×10－3pa小于13分钟
保压率
1h≤0.6pa
工件旋转方式
上旋转或下旋转＋公自转变频无级可控可调，0-20转/分
控制方式
手动＋半自动＋全自动一体化/触摸屏＋plc
备注
真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做

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遵化富森钛金设备有限公司
郭亚平
18034359189