- 蜗轮齿数：
- 样品或现货：
- 是否标准件：
- 加工贸易形式：1000
- 提供加工定制：
- 加工能力：1000
- 主要加工设备：1000
- 加工设备数量：100000
抛光粉是以稀土元素氧化铈为主要成份、经日本技术生产而成。
h-500氧化铈抛光粉主要用于光学组件、人工晶体的抛光。
h-500氧化铈抛光粉的原料为碳酸稀土，和用氟碳铈精矿做的抛光粉比较，具有氧化铈浓度高、切削力大、耐久性长等特点。
用途:特别适合光学组件、人工晶体、k9玻璃等硬材质的抛光。
特征:切削力大、沈淀凝固少、不易堵塞抛光皮、不发生划伤、表面精度高。
产品技术参数（参考数据，非保证数值）
品种
平均粒径（μm）
treo（%）
ceo2（%）
h-500
2.0
95
60
平均粒径用激光粒度仪测定。（microtrac particle sizeanalyzer hra）
treo（total rare earthoxide）：总氧化稀土含量。
包装：20kg硬纸箱
东莞市华特光学材料有限公司
饶红光
13412334370
樟木头西城路志洲大厦