1、设备名称：micro-controle ma750光罩对准曝光系统
2、设备品牌：micro-controle
3、设备规格：ma750
4、设备中文名称： ma750光罩对准曝光系统
5、设备应用领域：半导体、mems、微电子、led、薄膜电池
6、设备英文资料：
specifications :
substrates alignment up to 'à 3″, no thickness limitation.
exposure of substrates larger than 3″ in manual mode without alignment.
mask holders 4″ x 4″, 2,5″ x 2,5″, 3″ x 3″
microscope translation in x-y et z, stage translation in x-y, z . joystick operation.
origin initialization, digital display of translation motors position.
full contact under mask holder vertical translation, contact force can be parametrized through the software (limited to 999gr).
hg lamp 350w on the ma750d tool (n2 cooling) and hg lamp 200w on the ma750g tool (ventilator cooling).
ma750d tool equiped with a vacuum chamber.
microscope : three objectives (5x, 10x, 20x)x12,5 the largest magnification x500 is reached with a focal doubling.
alignement accuracy: ± 1µm (ma750d ),± 2µm (ma750g).
optimal achievable resolution : ~3µm - ma750g tool , 1µm -ma750d tool
7、设备中文资料
产品规格： 基板对齐“3”，没有厚度限制。 曝光基板大于3，在手动模式，而没有对准“。 面膜持有人4“× 4”，2.5“×2.5”，3“× 3” 在xy等z的阶段在xy，z轴翻译显微镜翻译。摇杆操作。 原产地初始化，翻译电机位置的数字显示。 掩模架垂直翻译，接触力下的充分接触可以通过软件的参数（仅限于999gr）。 汞灯350w ma750d工具（氮气冷却）和汞灯200w ma750g工具（呼吸机冷却）。ma750d工具配备一个真空室。 显微镜：三个目标（5x，10x，20x）达到x12，5最大放大倍率x500，焦距增加一倍。alignement精度：±1微米（ma750d），±2μm的（ma750g）。 优化可实现分辨率：〜3μm的 - ma750g工具，1μm的ma750d工具

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深圳市昊光机电科技应用有限公司
王明
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