¸ 加热温度:
         工作温度: 高达600°c
¸ 基体最大尺寸
         <3m (l) x 1.5m (h) 平板状基材
¸ 均匀性范围内有效镀膜宽度
         <1.5m (均匀性为±5%)
¸ 高生产效率
        效率高达1分钟/片 (<1.2mx 1.5m)
¸ 独特的真空传输装置
        陶瓷滚筒链轮驱动传动系统，采用独特的无缝连接不间断连续镀膜技术
¸ 先进的磁控溅射源设计
        在确保大面积镀膜均匀性的条件下，材料使用率提高
¸ 工艺真空室设计
     所有真空室为模块化设计，数目可根据具体应用增减
     每个工艺室装备多对平面溅射靶或圆柱靶
     溅射靶由直流、中频或射频电源驱动
     矩阵式多点可控大面积均匀高温基体加热技术
     数字闭环pid真空控制系统，配合精密阀门，准确稳定工艺真空到设定值

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纳峰真空镀膜（上海）有限公司
沈蓉
18017150832
青浦区华纺路99弄99号