sen特殊光源低压汞灯euv250ns-37
紫外线表面清洗
紫外线表面清洗是近年来新兴的清洗方法。紫外线表面清洗法不同于原有清洗法，没有污水，污气产生。是高能环保型清洗杀菌方法。广泛运用于lcd,pcb，点子，印刷，塑胶，玻璃，涂装等领域。
清洗法有干洗和湿洗两种。干洗有uv臭氧清洗，等离子清洗，离子清洗等。湿洗有水洗，碱清洗，酸清洗，液体喷射清洗等。我们日常所熟悉的湿式清洗有可以清洗掉较大范围污染的优点。但是也会有清洗不掉的污染。同时由于清洗的溶剂会在被清洗物表面残留，因此对于高精密世界来说也是个污染。
与此相反uv紫外线清洗虽然不能清洗掉大范围的污染，却可以清洗到各个角落的就是光洗净技术（以下简称uv臭氧清洗）。在纳米技术世界里，我们虽然看不到有机性污染，但是有机污染在表面形成膜（软接着层）如果在这层膜上印刷的话，就会出现鲜度恶化以及针孔等障碍。uv臭氧清洗可以去除的污染有有机化合物以及含有油脂的污染等。

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