光敏印章是上个世纪九十年代初由日本发明的，它是由一种特殊的化工合成材料，通过专用设备瞬间发出强光辅射，使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的印章。光敏印章的面世可以说是印章行业的一次革命，完全颠覆了传统印章的凹凸成像原理。利用特殊感光材料制成。具有成像极其清晰，无需印泥，即印即干的特点。其印迹可与印刷品质媲美，是目前最好的、最先进的印章产品，美观耐用，无须印台。（一次注油可印10000次以上）。  光敏印章是章墨一体印章，该印章是目前国际上最新型的一种印章，1998年初从日本引进，光敏印章基本原理是利用特殊材料的感光性，在印章表面不需要印迹的地方形成一层不能渗透的膜，从而达到印章的效果。印油通过光敏平面橡胶渗透，因此，使用光敏印章制作印章速度快。光敏印章的工艺特点是印面相对比较平整，印面字迹是由光敏橡胶

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