pva tepla 射频等离子体去胶机（整机进口），性能稳定，均匀性好。
典型应用：
去除光刻胶 photo-resist stripping
去除残胶 wafer descum
晶圆和衬底的清洁 wafer and substrate cleaning
氮化硅、聚酰亚胺等的刻蚀 etching of silicon nitride, pi, etc.
刻蚀钝化层 etching of passivation layers
过滤器和薄膜的清洁 cleaning of filters and membranes
规格参数：
13.56mhz风冷射频电源（0～600w可调，可选0～300w/0~100w），
铝制或石英腔体，
可抽卸平行电极板，均匀性好
兼容8英寸及以下晶圆
最多6路气体，mfc控制
pc工控机控制，运行数据自动存储
触控屏图形化用户界面，运行状态图形化实时显示
可选配法拉第桶
可选压力控制系统
可选温控装置
外形尺寸：775×723×781 mm
认证：
ce 认证
en 61010
en 61326
semi e95
iso 9001
cispr 55011

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北京哲勤科技有限公司上海办
周
13381799893
金桥出口加工区金港路333号