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常压烧结法（pls)在提高烧结氮气氛压力方面，利用氮化硅分解温度升高（通常在n2 =1atm气压下，从1800℃开始分解）的性质，在1700———1800℃温度范围内进行常压烧结后，再在1800———2000℃温度范围内进行气压烧结。该法目的在于采用气压能促进si3n4陶瓷组织致密化，从而提高陶瓷的强度.所得产品的性能比热压烧结略低。这种方法的缺点与热压烧结相似。
本公司专业生产氮化硅、氧化锆等结构陶瓷材料制作的管、棒、球、板、片、电器配件、机械配件及异形的元器件。产品主要应用于电子、机械、化工、冶金、纺织、电力等工业用的耐高温、耐腐蚀、耐磨损、耐高电压的特殊用途部位的配件。公司拥有完整的粉料制备、干压成型、等静压、气压烧结、各类数控磨床、加工中心等进口设备。可根据用户的要求，开模试制各种特殊形状的配件，并可对客户所提的耐高温、耐磨等要求提供可靠的完善的解决方案。随着陶瓷的基础研究和新技术开发的不断进步，特别是复杂件和大型件制备技术的日臻完善，氮化硅陶瓷材料作为性能优良的工程材料将得到更广泛的应用。欢迎来电咨询！
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